PX—XCDA纯化器
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纯化系列 |
脱除杂质ppb |
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气体 |
型号 |
纯化工艺 |
H2O |
CO2 |
挥发性酸VA |
挥发性碱VB |
耐熔化合物RC |
总有机碳TOC |
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XCDA |
PX |
吸附 (Absorb) |
<0.1 ppb |
－ |
<10ppt |
<10ppt |
<10ppt |
<10ppt |
应用领域：
- 纯化用于半导体应用的XCDA
工艺介绍：
采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的H2O、CO2、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、总有机碳TOC等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。
PX系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CDA中的污染杂质，满足客户现场需求
