PC/PCO—二氧化碳纯化器
|
|
纯化系列 |
脱除杂质ppb |
||||||||||
|
气体 |
型号 |
纯化工艺 |
CH4 |
O2 |
H2O |
H2 |
CO |
挥发性酸VA |
挥发性碱VB |
耐熔化合物RC |
可冷凝有机物Corg |
不凝有机物Ncorg |
|
CO2 |
PC |
吸附 (Abs) |
---- |
<1 |
<1 |
<1 |
<1 |
<0.005 |
<0.5 |
<0.005 |
<0.15 |
<1 |
|
|
PCO |
催化+吸附（Cat+Abs） |
<1 |
<1 |
<1 |
<1 |
<1 |
<0.005 |
<0.5 |
<0.005 |
<0.15 |
<1 |
应用领域：
- 纯化用于半导体应用的二氧化碳
工艺介绍：
PC系列采用HPC特有纯化材料，通过吸附工序，深度脱除气体中的。上表中杂质O2、H2O、H2、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。多个吸附器交替吸附、再生，实现对原料气体的连续纯化。
PC系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术，以高可靠性、低成本及高性能，有效的脱除CO2中的污染杂质，满足客户现场需求.
- PCO系列气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH4、还原性杂质与O2反应转化为H2O和CO2；
- 气体通过多柱吸附工序深度脱除气体中的CH4、O2、H2O、H2、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质；
- 吸附柱饱和后可通还原性气体加热再生，反复使用；
- 多柱交替吸附、再生，可实现对气体的连续纯化。
