产品分类
PH3233-CO2

PH32/33—二氧化碳纯化器

 

纯化系列

脱除杂质ppb

气体

型号

纯化工艺

CH4

O2

H2O

H2 

CO

挥发性酸VA

挥发性碱VB

耐熔化合物RC 

可冷凝有机物Corg

不凝有机物Ncorg

CO2 

PH32

吸附 (Abs)

----

<1

<1

<1

<1

<0.005

<0.5

<0.005

<0.15

<1

 

PH33

催化+吸附(Cat+Abs)

<1

<1

<1

<1

<1

<0.005

<0.5

<0.005

<0.15

<1

 

应用领域:

  • 纯化用于半导体应用的二氧化碳

 

工艺介绍:

PH32系列采用HPC特有纯化材料,通过吸附工序,深度脱除气体中的。上表中杂质CH4、O2、H2O、H2、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质。多个吸附器交替吸附、再生,实现对原料气体的连续纯化。

PH32系列独立气体纯化系统通过现场原位再生和先进的技术,以高可靠性、低成本及高性能,有效的脱除CO2中的污染杂质,满足客户现场需求.

 

  • PH33系列气体首先通过高温催化氧化工序,将气体中的CH4、还原性杂质与O2反应转化为H2O和CO2;
  • 气体通过多柱吸附工序深度脱除气体中的CH4、O2、H2O、H2、CO、挥发性酸VA、挥发性碱VB、耐熔化合物RC、可冷凝有机物Corg、不凝有机物Ncorg等杂质;
  • 吸附柱饱和后可通还原性气体加热再生,反复使用;
  • 多柱交替吸附、再生,可实现对气体的连续纯化。